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品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池 |
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工作尺寸 | 150毫米×150毫米,厚度約0.1?-?1.0毫米 |
日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC
平行光曝光系統(tǒng)
設(shè)計(jì)緊湊的平行光曝光系統(tǒng)。
這種準(zhǔn)直鏡式平行光曝光系統(tǒng)使用一個(gè)超高壓汞燈作為點(diǎn)光源。 主要部件由光源、吸式曝光臺(tái)和面罩單元組成,曝光方式可以是真空接觸(硬接觸)曝光方式。 也可根據(jù)要求提供接近系統(tǒng)。
對(duì)于曝光控制,安裝了一個(gè)集成的測光表,以方便設(shè)置正確的曝光量。
基本信息
日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC
基本規(guī)格。
工件尺寸:150毫米×150毫米,厚度約0.1 - 1.0毫米
光學(xué)性能:超高壓汞燈1KW(風(fēng)冷),波長約300-470納米(主波長365、405、436納米)。
紫外線照度約為40 mw/cm^2的初始值(@365 nm),照度分布為90% min。
射線平行度:準(zhǔn)直半角≤1.5°,傾角≤1.0°。
曝光快門:用空氣驅(qū)動(dòng)的快門打開/關(guān)閉
曝光控制:取決于集成測光表(控制波長為365納米),20通道記憶
面罩(基本): □8英寸玻璃面罩,3.0毫米或5.0毫米厚
曝光臺(tái):吸氣臺(tái),前/后可移動(dòng),內(nèi)置真空泵
上層框架類型:專用玻璃罩框架或麥拉框架
公用設(shè)施:電源3相200V 50/60 Hz,斷路器開關(guān)30A,10.5KVA
壓力空氣約0.5 Mpa
廢氣:約8 m^3/min
外部尺寸:(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm
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